| 税则号列 | 商品名称 | 商品描述 | 归类决定 | 决定文件 | 生效日 | 备注 |
| 8486.20 | 半导体薄片上喷镀金属的模块系统 | 为一个整体，主要由喷镀模块构成，装有磁控管、涡轮真空分子泵、一个自动控制装置及一个加热装置。当半导体薄片进入沉积室，高纯金属（如铝）靶盘受氩气（来自气体分配系统）产生的离子轰击，使金属粒子从其表面移动并沉积（喷镀）到薄片上。气体对靶盘的轰击，使金属的中性原子受轰击离子的动力作用从靶上撞出，被撞出的原子，则沉积在半导体薄片上形成导电薄膜。该系统用于涂布生产复合集成电路用半导体薄片。 |
会议指出，喷镀是依靠磁控管实现的，电子管所执行的功能不被认为是机械功能。由于喷镀是通过磁控管实现的，磁控管是构成设备特征的组成部分，决定其归类。由于作为主要功能的喷镀是一种电子化的功能，八十五章不包括也没有特别提及，委员会决定，根据十六类注释三将其归入子目8543.80。 * 在委员会第十五次会议上决定归入子目8479.89。当这个问题被提出保留后重新审议，归类决定变为子目8543.11。最后，在问题又一次保留后的审议中，委员会选择了子目8543.89。 |
W2005-434 | 2005年12月23日 | 本条已被海关总署公告2014年第93号废止 |
